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光催化反應過程中隨著時間延長樣品溫度逐漸升高,反應溫度的升高對光催化反應速率會產生促進、抑制和先促進后抑制三種不同的作用,因此溫度控制在光催化反應中非常重要。反應溫度對光催化反應的影響,可以分別從溫度對光催化劑表面反應(吸附反應、化學反應和脫附反應)、光催化劑表面活性以及光催化反應機制的影響等幾個方面,控溫型光催化反應裝置為研究接近常溫25℃時的反應情況提供了有效手段。
主要特征:
1、7寸真彩PLC觸摸屏控制,動態(tài)模擬運行畫面
2、光照強度、光源功率、攪拌速度、樣品倉溫度均為數(shù)字顯示,數(shù)據實時記錄且可歷史查詢或導出
3、具備485通訊功能,連接上位機可遠程操作
4、同時具備試管底部磁力攪拌和樣品盤旋轉功能,樣品受光均勻
5、石英試管浸泡式恒溫,外接恒溫槽控制反應倉溫度
6、特殊的管路排風系統(tǒng),無需外接冷卻水即可使光源溫度維持正常運行溫度
8、光照強度實時顯示,為實驗可重復性提供可靠保障
9、高透光石英試管,減少對光照的影響
10、具備定時功能和運行時間顯示
11、雙重超溫保護,燈管溫度過高或反應倉溫度過高時自動關閉電源
12、臺式設計,占地面積小,節(jié)省空間
技術參數(shù):
1、旋轉式恒溫裝置,單次可容納12個試管
2、汞燈功率調節(jié)范圍:100-1000W可連續(xù)調節(jié)
3、氙燈功率調節(jié)范圍:100-1000W可連續(xù)調節(jié)
4、石英試管規(guī)格:10ml、30ml、50ml、100ml可選
5、受光形式:內照式光源,磁力攪拌+試管公轉
6、UVA測量范圍:0~200W/㎡,光譜范圍:280~400nm
7、可見光測量范圍:0~1800W/㎡,光譜范圍:400~1100nm
8、實驗數(shù)據實時記錄,歷史記錄可查詢
9、樣品倉溫度顯示:有
10、樣品倉制冷量:720W
11、樣品控溫范圍:10~50℃
12、控溫精度:±0.5℃
13、主機尺寸:670*500*650mm(長寬高)
14、電源要求:220V 50HZ
產品配置:
組件名稱 | 規(guī) 格 | 數(shù) 量 | 備注 |
光化學主機 | BL-GHX-VK | 1臺 |
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低溫恒溫槽 | BILON-T-600 | 1臺 |
|
石英冷阱 |
| 1支 |
|
汞燈 | 1000W | 1支 | 紫外光 |
氙燈 | 1000W | 1支 | 太陽光 |
12位攪拌裝置 |
| 1臺 | 內置式 |
石英試管 | 50ml | 12支 | 可選其它規(guī)格 |
磁力攪拌子 |
| 12粒 |
|
循環(huán)連接管 |
| 2根 |
|
電源線 |
| 1根 |